プラズマクリーナーによる洗浄について

プラズマクリーナーはアルゴン原子や酸素分子を使い、サンプルの表面から無機物や有機物を除去する装置です。半導体や電子デバイスなどを製造する際には、微細な汚れを除去しなければなりません。プラズマクリーナーにはRIEモードとDPモードという2種類の処理方式があり、サンプルに付着した微細な汚れを取り除くことができます。RIEモードは無機物と有機物の両方に対応していますが、DPモードは化学反応を利用するため有機物のみが対象となります。

プラズマクリーナーの処理方式のうち、RIEモードはアルゴン原子を減圧したチャンバー内に導入して高周波電力を電極間に印加します。アルゴン原子はイオンと電子に電離し、電子は軽いためイオンよりも先に下部電極に到達することになります。下部電極ではマイナス電圧とイオンシースが発生し、プラスの電荷を帯びたイオンは下部電極に移動します。イオンシースは加速領域のことで、厚みが大きくなるほどイオンが加速してサンプルに衝突し無機物や有機物を弾き飛ばしてくれます。

DPモードは酸素分子を減圧したチャンバーに導入し、高周波電力を電極間に印加します。酸素分子が電離して酸素原子がサンプル上の有機化合物と反応し、二酸化炭素や水になります。DPモードでは生成された二酸化炭素や水が真空ポンプで排気される仕組みになっており、効果的に有機物を除去できます。プラズマクリーナーは半導体や電子デバイス、医療器具やレンズなどを製造する際に不可欠な存在です。

この装置は半導体などの製品の品質を高めるだけでなく、生産性を向上させるのに役立っています。

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