微細な汚れを除去するプラズマクリーナーとは

プラズマクリーナーは半導体などを製造する際に発生する微細な汚れを除去する装置で、薬液を使わずドライ洗浄を行います。薬液を使ってウェット洗浄を行う場合には、洗浄後にリンスで薬液を洗い流して乾かさなければなりません。ドライ洗浄を行うプラズマクリーナーはウェット洗浄と比べて工程数が少ないため、生産性を向上させることができます。この装置は半導体の他にも電子デバイスや医療機器、レンズなどの精密機器を製造する際に使われています。

プラズマクリーナーにはRIEモードとDPモードという2種類の処理方式が存在します。減圧されたチャンバー内で高周波電力を電極間に印加するという仕組みは同じですが、前者はアルゴン原子を使う後者は酸素分子を使います。RIEモードではアルゴン原子がアルゴンイオンと電子に電離され、加速したイオンが有機物や無機物に衝突します。イオンシースと呼ばれる加速領域で速度を増したアルゴンイオンが、サンプル表面上の汚れを物理的に弾き飛ばす点に特徴があります。

DPモードでは酸素分子が酸素原子になり、サンプル表面上の有機化合物と化学反応を起こします。化学反応によって二酸化炭素と水分子が生じ、真空ポンプを使って外部に排出される仕組みです。RIEモードは物理的に有機物や無機物を弾き飛ばし、DPモードは化学反応によって有機物を除去します。製造業の現場では発生する汚れの種類に応じて最適なタイプのプラズマクリーナーが使われています。

コメントを残す

メールアドレスが公開されることはありません。 * が付いている欄は必須項目です